磁控溅射用钌靶
Magnetron sputtering ruthenium target
国家标准《磁控溅射用钌靶》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口上报，TC243SC5（全国有色金属标准化技术委员会贵金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。
主要起草单位 有研亿金新材料有限公司 、有色金属技术经济研究院 。
主要起草人 罗俊锋 、丁照崇 、李勇军 、向磊 、万小勇 、刘书芹 、熊晓东 、王庄 、贺昕 、滕海涛 、高岩 。
目录
1标准状态
- 发布于2017-09-29
- 执行于2018-04-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 34649-2017
- 发布日期
- 2017-09-29
- 实施日期
- 2018-04-01
- 中国标准分类号
- H68
- 国际标准分类号
- 77.150.99
- 归口单位
- 全国有色金属标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国有色金属标准化技术委员会
- 主管部门
- 中国有色金属工业协会
有研亿金新材料有限公司