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电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材

High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

国家标准 推荐性 现行

国家标准《电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口上报,TC243SC1(全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。

主要起草单位 有研亿金新材料股份有限公司宁波江丰电子材料有限公司新疆众和股份有限公司

主要起草人 万小勇罗俊锋廖赞尚再艳杨华朱晓光孙秀霖

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