平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
行业标准《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报，主管部门为工业和信息化部。
主要起草单位 利达光电股份有限公司 。
主要起草人 李智超 、杨太礼等 。
目录
1标准状态
- 发布于2010-06-01
- 执行于2009-12-04
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- YS/T 719-2009
- 发布日期
- 2009-12-04
- 实施日期
- 2010-06-01
- 中国标准分类号
- H63
- 国际标准分类号
- 77.150.99
- 归口单位
- 全国有色金属标准化技术委员会
- 主管部门
- 工业和信息化部
- 行业分类
- 无
3备案信息
备案号：28132-2010。
备案公告： 2010年第4号 。
4起草单位
5起草人
6相近标准（计划）
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