Nondestructive test method for micropipe density of polished monocrystalline silicon carbide wafers
国家标准《碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 北京天科合达蓝光半导体有限公司 、中国科学院物理研究所 。
主要起草人 陈小龙 、郑红军 、张玮 、郭钰 、刘振洲 。
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