通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
行业标准《通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法》，主管部门为电子工业部。
目录
1标准状态
- 发布于1995-10-01
- 执行于1995-04-22
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- SJ/T 10627-1995
- 发布日期
- 1995-04-22
- 实施日期
- 1995-10-01
- 主管部门
- 电子工业部
- 行业分类
- 无
3备案信息
备案号：0044-1995。
4相近标准（计划）
GB/T 19444-2004 硅片氧沉淀特性的测定 间隙氧含量减少法- 20151786-T-469 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
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