硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法

Test method for determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption

国家标准计划修订推荐性

国家标准计划《硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位新特能源股份有限公司、有研半导体材料有限公司、亚洲硅业（青海）有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司、隆基绿能科技股份有限公司、内蒙古盾安光伏科技有限公司、峨嵋半导体材料研究所、北京合能阳光新能源技术有限公司。

主要起草人银波、夏进京、邱艳梅、刘国霞、柴欢、赵晶晶、刘文明、姚利忠、王海礼、邓浩、高明、郑连基、陈赫、石宇、杨旭、肖宗杰。