氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法
The method for full width at half maximum of double crystal X-ray rocking curve of GaN single crystal substrate
国家标准《氮化镓单晶衬底片x射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 、苏州纳维科技有限公司 、中国科学院物理研究所 、北京天科合达蓝光半导体有限公司 、丹东新东方晶体仪器有限公司 。
主要起草人 邱永鑫 、任国强 、刘争晖 、曾雄辉 、王建峰 、陈小龙 、王文军 、郑红军 、徐科 、赵松彬 。
目录
1标准状态
- 发布于2015-12-10
- 执行于2016-11-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 32188-2015
- 发布日期
- 2015-12-10
- 实施日期
- 2016-11-01
- 中国标准分类号
- H21
- 国际标准分类号
- 77.040
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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