用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy
国家标准《用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 上海华虹NEC电子有限公司 。
主要起草人 王雷 、伍强 、朱骏 、陈宝钦 。
目录
1标准状态
- 发布于2013-11-12
- 执行于2014-04-15
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 29844-2013
- 发布日期
- 2013-11-12
- 实施日期
- 2014-04-15
- 中国标准分类号
- L90
- 国际标准分类号
- 31.030
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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