Specification for metrology pattern cells for integrated circuit manufacture
国家标准《用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院缩微电子中心 。
20153727-T-469 集成电路制造中套刻检测图形规范
20174085-T-469 集成电路制造设备术语
GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
DB31/ 506-2010 集成电路晶圆制造能耗限额
GB/T 9178-1988 集成电路术语
GB/T 8976-1996 膜集成电路和混合膜集成电路总规范
GB/T 13062-1991 膜集成电路和混合膜集成电路空白详细规范(可供认证用)
SJ/Z 11353-2006 集成电路IP核转让规范
GB/T 17574.20-2006 半导体器件 集成电路 第2-20部分:数字集成电路 低压集成电路族规范
20062822-T-339 半导体器件 集成电路 第21部分:膜集成电路和混合膜集成电路分规范(采用鉴定批准程序)