半导体制造用气体处理指南
Guide for gaseous effluent handling in semiconductor industry
国家标准《半导体制造用气体处理指南》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中昊光明化工研究设计院有限公司 、西南化工研究设计院有限公司 、高麦仪器公司 、广东华特气体股份有限公司 、东莞市联臣电子科技有限公司 、上海华爱色谱分析技术有限公司 、上海市计量测试技术研究院 。
主要起草人 孙福楠 、牛艳东 、廖恒易 、杜汉盛 、王鸿 、方华 、陈鹰 、周鹏云 。
目录
1标准状态
- 发布于2017-11-01
- 执行于2018-02-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 34971-2017
- 发布日期
- 2017-11-01
- 实施日期
- 2018-02-01
- 中国标准分类号
- G86
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
中昊光明化工研究设计院有限公司