行业标准《电子薄膜用高纯钛溅射靶材》由全国有色金属标准化技术委员会归口上报,主管部门为工业和信息化部。
主要起草单位 有研亿金新材料股份有限公司 、宁波江丰电子材料有限公司 。
主要起草人 何金江 、董亭义等 。
备案号:42676-2014。
备案公告: 2014年第1号 。
GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材
YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
DB52/T 795-2013 电子级高纯钛
YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶
YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
HG/T 3587-2009 电子工业用高纯钛酸钡
YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材
YS/T 1124-2016 磁性溅射靶材透磁率测试方法