化学放大光致抗蚀剂的工艺参数描述规范
Specifications for parameter description for Chemical Amplified (CA) photoresist parameter
国家标准计划《化学放大光致抗蚀剂的工艺参数描述规范》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院微电子研究所 、中国电子技术标准化研究院 。
目录
1项目进度
- 网上公示
- 起草
- 征求意见
- 审查
- 批准
- 发布
2基础信息
- 计划号
- 20153725-T-469
- 制修订
- 制订
- 项目周期
- 24个月
- 下达日期
- 2016-01-04
- 国际标准分类号
- 31.030
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4相近标准（计划）
YC/Z 317-2009 卷烟工艺参数信息化管理规范- 20141891-T-469 光致抗蚀剂灵敏度测量参数规范
- GB/T 25712-2010 振动时效工艺参数选择及效果评定方法
- JB/T 7510-1994 工艺参数优化方法 正交试验法
- JB/T 12392-2015 机械加工工艺参数表示法
- GB/T 16527-1996 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子束抗蚀剂规范
- JB/T 10375-2002 焊接构件振动时效工艺参数选择及技术要求
- SL 647-2013 水工金属结构振动时效工艺参数选择及技术要求
- JB/T 11085-2011 振动焊接工艺参数选择及技术要求
- DB51/T 1397-2011 水稻品种描述规范
