表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
Surface chemical analysis-Secondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 清华大学电子工程系 。
主要起草人 查良镇 、陈旭 、黄雁华 、王光普 、黄天斌 、刘林等 。
目录
1标准状态
- 发布于2006-03-27
- 执行于2006-11-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 20176-2006
- 发布日期
- 2006-03-27
- 实施日期
- 2006-11-01
- 中国标准分类号
- N33
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 归口单位
- 全国微束分析标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国微束分析标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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