掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysisof mask defect inspection systems
国家标准《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院微电子中心 。
目录
1标准状态
- 发布于1999-09-13
- 执行于2000-06-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 17866-1999
- 发布日期
- 1999-09-13
- 实施日期
- 2000-06-01
- 中国标准分类号
- L56
- 国际标准分类号
- 31.200
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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