表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
Surface chemical analysis―Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (
国家标准《表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定》由TC38（全国微束分析标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国计量科学研究院 。
主要起草人 王海 、宋小平 、王梅玲 、高思田 、冯流星 。
目录
1标准状态
- 发布于2014-03-27
- 执行于2014-12-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 30701-2014
- 发布日期
- 2014-03-27
- 实施日期
- 2014-12-01
- 中国标准分类号
- G04
- 国际标准分类号
- 71.040.40
- 归口单位
- 全国微束分析标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国微束分析标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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