工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method
国家标准《工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口上报，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。
主要起草单位 昆明冶金研究院 、中国铝业股份有限公司郑州研究院 、昆明冶研新材料股份有限公司 、云南出入境检验检疫局技术中心等 。
主要起草人 刘维理 、王劲榕 、李跃平 、赵德平 、杨毅等 。
目录
1标准状态
- 发布于2014-12-05
- 执行于2015-08-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 14849.4-2014
- 发布日期
- 2014-12-05
- 实施日期
- 2015-08-01
- 全部代替标准
- GB/T 14849.4-2008
- 中国标准分类号
- H12
- 国际标准分类号
- 77.120.10
- 归口单位
- 全国有色金属标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国有色金属标准化技术委员会
- 主管部门
- 中国有色金属工业协会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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