掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则
Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
国家标准《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报及执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院微电子中心 。
目录
1标准状态
- 发布于1997-06-20
- 执行于1998-03-01
- 废止于
2基础信息
- 标准号
- GB/T 16879-1997
- 发布日期
- 1997-06-20
- 实施日期
- 1998-03-01
- 中国标准分类号
- L97
- 国际标准分类号
- 31.020
- 归口单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 执行单位
- 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
- 主管部门
- 国家标准化管理委员会
3起草单位
4起草人
5相近标准（计划）
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