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硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法

Test methods for minority carrier lifetime in bulk germanium and silicon by measurement of photoconduetivity decay

国家标准 推荐性 现行

国家标准《硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 峨嵋半导体材料厂

主要起草人 江莉杨旭

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