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酸浸取 原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物

Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-atomic absorption spectroscopy

国家标准 推荐性 现行

国家标准《酸浸取 原子吸收光谱法测定多晶硅表面金属污染物》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报及执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 信息产业部专用材料质量监督检验中心中国电子科技集团公司第四十六研究所

主要起草人 褚连青王奕魏利洁

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